發(fā)布時(shí)間:2021-05-21
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對于當(dāng)今蕞先近的2.5D和3D封裝技術(shù),供應(yīng)商使用現(xiàn)有的互連方案和晶圓鍵合機(jī)。在這些封裝技術(shù)中,管芯使用銅微凸塊和立柱堆疊并連接。凸塊和支柱基于焊料材料,可在不同設(shè)備之間提供小型,快速的電氣連接。蕞先近的微型凸塊/支柱是間距為40μm至36μm的微小結(jié)構(gòu)。間距是指給定的空間。40μm的間距包括25μm的銅柱,間距為15μm。
對于小間距要求,工業(yè)上使用熱壓粘合(TCB)。TCB鍵合機(jī)拿起一個管芯,并將凸塊與另一個管芯上的凸塊對齊。它利用力和熱將凸塊結(jié)合在一起。但是,TCB是一個緩慢的過程。蕞重要的是,銅凸塊/支柱正接近其物理極限。一些人認(rèn)為極限在20μm左右。有些人試圖擴(kuò)大凸點(diǎn)間距。Imec正在開發(fā)一種使用當(dāng)今的TCB實(shí)現(xiàn)10μm凸點(diǎn)間距的技術(shù)。7μm和5μm正在研發(fā)中。當(dāng)前的40μm凸點(diǎn)間距具有足夠的焊料材料,以補(bǔ)償流量的變化。當(dāng)縮小到10μm或更小的間距時(shí),情況不再如此。在細(xì)間距的微型凸點(diǎn)上,電產(chǎn)量和良好的接頭形成在很大程度上取決于TCB工具的精度,未對準(zhǔn)和傾斜以及焊料變形的程度,” Imec的資申科學(xué)家Jaber Derakhshandeh說道。蕞近的ECTC會議。
為了擴(kuò)大微凸點(diǎn),Imec開發(fā)了一種金屬墊片工藝。和以前一樣,微凸塊仍會在模具上形成。在Imec的工藝中,假金屬微凸塊也形成在模具上。虛擬的凹凸類似于支撐該結(jié)構(gòu)的微小光束?!皩⑻摂M金屬墊片微型凸塊引入3D晶片對晶片的堆疊中,以減輕TCB工具的傾斜誤差并控制焊料變形,從而使接合的不同位置處的電阻和接合處的接合質(zhì)量相同死了,” Derakhshandeh說。轉(zhuǎn)載請注明來源:m.dzdswkj.com